磁性材料是功能材料的重要分支，磁性材料的应用非常广泛。对于磁性材料无论是自发磁化还是技术磁化，磁畴理论为磁性材料的磁化机理提供了理论依据，磁畴的形成是碰畴理论的重要研究领域。减小退磁能，这是磁畴形成的主要原因，可见，退磁场和它形成的退磁能在磁畴的形成过程中有着不可替代的作用。另外，在实际应用中，磁性材料在外磁场中磁化时所产生的退磁场直接影响着材料的一系列性能。　　 本文首先介绍了材料磁性的微观起因以及磁性材料的分类，并对铁磁性材料的自发磁化理论和技术磁化理论以及铁碰体中的基本磁现象作了详细的阐述。当磁性体被磁化后在其表面或内部不均匀处将产生磁荷，这种面磁荷或体磁荷在磁性体内所产生的磁场称为退磁场。由退磁场而引起的退磁能的作用不利于均匀磁化，而有利于形成磁畴。如果没有交换作用能和磁晶各向异性能的制约，磁畴的分裂会无限制地继续。所以，磁性体内部的各种能量对磁畴的尺寸分布和畴壁的形状起着决定作用。从另一观点看，交换作用能只控制微观性质，譬如畴壁内部。而退磁能通常决定着整个晶体中磁化强度的分布图像，为此就必须讨论退磁场。一般情况下是从磁偶极子之间的经典相互作用解出退磁场，也可以从麦克斯韦方程组解出退磁场。　　 任意形状的磁介质，在外磁场中磁化时的退磁场很难解。本文给出了圆柱磁介质和椭球磁介质的退磁场和退磁因子的解析解。通过理论计算和数值分析得出以下结果：　　 1.对有限长圆柱形均匀磁介质在轴向均匀磁化时，给出了任意一点的退磁场和退磁因子的表达式。井分析了各种形状的圆柱形均匀磁介质内部轴向退磁因子的分布和内部横向退磁因子的分布。　　 2.本文采用椭球坐标系，对在匀强磁场中均匀椭球磁介质的碰标势，求出了解析解，从而获得了椭球磁介质内退磁场和退磁因子的数学表达式，通过理论计算和数值分析得出以下主要结果：　　 (1)椭球磁介质内的退磁场是均匀的。退磁场的方向与磁化场的方向既不完全相同，也不完全相反，其夹角与磁化场的方向以及椭球体的半长轴的大小都有关系，还与磁介质是抗磁体、顺磁体还是铁磁体也有关系，即退磁场方向和磁介质的磁化率是有关系的。　　 (2)在椭球主轴坐标系中，均匀磁介质椭球退磁因子张量是对角张量，其迹等于1。磁介质椭球退磁因子与椭球的形状有关，与椭球的大小无关。沿椭球某一主轴方向退磁因子的大小，与该主轴相对于另外两个主轴的长度有关，相对长度越大，退磁因子越小。在磁化场沿椭球某一主轴或介质为球形时，退磁场才严格与磁化场平行(反向或同向)。