核壳结构量子点@二氧化硅光学特性研究

来源 :河北工业大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hong2007quan
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胶体半导体量子点(以下简称量子点,Quantum dots,QDs)具备独特的光学特性,作为光转换材料在背光显示和固态照明领域得到广泛应用。量子点一般通过与硅胶混合用于制备荧光转换发光二极管(QCLED),但其在器件封装过程中存在稳定性差以及在硅胶中分散性差等问题。利用微乳液法在量子点表面包裹生长二氧化硅,形成核壳结构量子点@二氧化硅(QDs@SiO2),可以有效的改善量子点的稳定性以及硅胶兼容性。但是,目前催化剂对QDs@SiO2形貌和性能的影响以及二氧化硅壳层厚度对量子点在QCLED中发光特性的影响尚缺乏系统研究。基于此,本论文研究了不同催化剂在QDs@SiO2制备过程中对其形貌、效率的影响,同时深入研究了二氧化硅壳层厚度对QDs@SiO2在QCLED中的光学和热学特性的影响。具体工作内容如下:(1)核壳结构QDs@SiO2的可控合成研究。基于微乳液法,采用同种催化剂分别制备了Cd Se/Zn S球形QDs@SiO2和Cd Se/Cd S棒形QDs@SiO2;然后,分别采用不同种类的催化剂和不同浓度的催化剂制备、QDs@SiO2;并对以上制备得到的所有核壳结构进行形貌和光学特性表征。可以得出,QDs@SiO2的形貌主要取决于量子点本身的形貌;催化剂氨水和甲胺溶液都可以实现QDs@SiO2的可控合成,但是,两种催化剂的碱性不同,导致反应速度和产物的光学性能存在差异。当催化剂浓度为10 wt%时,QDs@SiO2光学性能较好。而丁胺催化性能较弱,难以有效控制二氧化硅生长和包裹量子点。(2)QDs/SiO2在QCLED中的光学和热学特性研究。首先制备出二氧化硅壳层厚度范围为10-60 nm之间的Cd Se/Zn S球形QDs@SiO2。通过光、热学模拟结合实验结果,研究了不同纳米颗粒的光散射、热积累以及浓度淬灭对QCLEDs光学性能的综合影响。研究结果表明,在低功率密度环境下,二氧化硅壳层厚度范围在20-30 nm之间时,QDs@SiO2具有抑制自吸收淬灭和增强光散射的最佳光学性能;在高功率密度环境下,QDs@SiO2内部会产生热集聚,较薄的二氧化硅壳层,范围为10-15 nm之间,更有利于降低QCLEDs中量子点的热淬灭而保持其发光效率。此部分研究为开发合适的QDs@SiO2核壳结构以满足不同QCLEDs器件的应用需求提供了指导。
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