高分子嵌段共聚物在一定条件下能发生微相分离,自组装成多种高度有序的相分离形态。这些自组装形态可以作为模板来制备相应的纳米结构,因此,研究热点也相应地转移到如何调控嵌段共聚物的微相分离形态上。同时,进一步研究这些有序微结构与各种性能(如力学行为等)间的关系对未来的纳米加工技术具有非常重要的意义。本文应用敲击模式的原子力显微镜(TM-AFM)研究了环己烷挥发速度和溶剂熏蒸,薄膜厚度对嵌段共聚物相分离形态的影响,同时考察了二甲苯熏蒸对嵌段共聚物共混物相分离形态的影响,最后系统研究退火条件下相分离形态对嵌段共聚物膜形变回复行为的影响。结果如下:在环己烷挥发速度的研究中,发现随着环己烷溶剂量的增加,挥发速度减慢,SEBS薄膜相分离形态从无规结构、长程连续结构向球状、柱状混合结构转变。环己烷熏蒸试验结果表明:熏蒸过程中球状和柱状形态相互转变,随熏蒸时间延长,柱状微区的有序程度提高。在成膜过程中,薄膜厚度对SEBS薄膜相分离形态有重要影响。膜厚从11、13、15到30和40nm变化时,相分离形态从不明显的网状、不均匀分布的球状、长程连续到无规结构变化。在SEBS/SBS嵌段共聚物共混物浇铸膜形态中观察到宏观相分离现象,这种现象随二甲苯熏蒸时间的延长而消失。SEBS薄膜的形变回复行为研究发现,回复百分比与驰豫时间的对数呈线性关系。回复速度基本随温度的升高而加快。在323和333K条件下,回复最快的是相分离形态为网状结构的SEBS薄膜、柱状次之,无规结构较慢;在343K条件下,由于柱状和网状结构转变为无规结构,三者回复速度相近。可见,PS塑料相连续与否对形变回复行为起决定性影响,相分离形态对SEBS薄膜形变回复行为的影响不如退火温度显著。