本文采用磁控溅射方法在单晶硅衬底和玻璃衬底上制备了Ni-Mn-In-Co磁性形状记忆合金薄膜,采用了扫描电子显微观察、原子力显微镜表面形貌分析、X射线衍射分析和示差扫描热分析等手段研究了溅射工艺对Ni-MnIn-Co合金薄膜表面形貌、化学成分的影响规律,探明了薄膜的磁学性能,探索了磁性形状记忆合金薄膜与衬底的分离技术。研究表明,溅射工艺对Ni-Mn-In-Co薄膜的表面形貌和化学成分有着显著影响。薄膜表面粗糙度随溅射功率和Ar工作压强的增加均增大,随着衬底负偏压的增大而减小。薄膜中Ni元素含量随溅射功率的增大而减少,随衬底负偏压的增大而增多。In的含量随着衬底负偏压增大近似线性减小。研究发现,衬底未加热时所制备合金薄膜为部分结晶状态。衬底温度对薄膜的微观结构和晶化行为有显著影响。衬底加热是制备晶化良好的NiMn-In-Co合金薄膜的有效途径。磁学性能测量结果表明,通过衬底加热制备的Ni-Mn-In-Co合金薄膜具有典型铁磁性材料的特征,呈现较大饱和磁化强度,在低温时薄膜表现为铁磁性,当温度达到340K时,薄膜表现为顺磁性。采用了磁控溅射技术分别在Na Cl晶体、聚乙烯醇(PVA)、硼硅玻璃和金属Cr衬底上制备Ni-Mn-In-Co合金薄膜。通过衬底的水溶性和湿法刻蚀原理,使薄膜与衬底分离来获得无约束合金薄膜。试验发现使用PVA薄膜衬底是获得无约束磁性记忆合金薄膜的一种可行方法。