多弧离子镀膜设备中直线型磁过滤装置的研究与应用

来源 :中国科学院力学研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:smarten
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该文首先从大颗粒的产生机理出发,在讨论电子和离子在直线型过滤装置中的运动过程的基础上阐述了对直线型过滤装置过滤大颗粒的理论解释.理论分析表明,直线型过滤装置可以对电弧阴极产生的大颗粒起到过滤作用,其理论机理较为复杂,该文认为可以在于靶面处平行磁场加速并细化弧斑,国重阴极中毒程度从而改变其耐温程度,反射回流电子和离了增强了大颗粒受到的碰撞以及几何因素等效应的综合作用.产生上述作用的关键因素在于磁场的纵向梯度变化,即形成瓶颈开磁场,这一点为直线型过滤装置的设计了理论基础.通过对设计的两种直线型过滤装置进行实际应用,对所镀薄膜的性能进行检测,并与普通电弧阴极所镀薄膜比较,作者得出以下结论:采用Ⅰ型过滤装置后,虽薄膜厚度略有降低,介弄清 膜表面粗糙度明显下降,显微硬度增加,表面形貌明显改善,耐腐蚀能力明显提高,综合性能总体上有了显著改善.采用Ⅱ型过滤装置后,薄膜厚度有所增加,表面粗糙度有所下降,表面形貌有一定改善,耐腐蚀能力略有提高,显微硬度却变化不大,综合性能也有了一定改善.
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