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本文从高岭石的微结构特征出发，运用XRD、FT-IR、TG-DSC等手段对高岭石的结晶度指数、特征基团吸收峰、热稳定性进行研究，并用NMF作为插层剂制备了高岭石/NMF插层复合物。以高岭石/NMF为前驱体，用十二烷基胺取代高岭石层间的。NMF分子制备了高岭石/十二烷基胺插层复合物，在此基础上用丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸进行大分子插层，并在加热条件下使其在高岭石层间发生原位聚合，成功制备了高岭石/丙烯腈-甲基丙烯酸甲酯接枝共聚复合物。
本文主要取得了以下研究成果：
1.根据Hinkly指数的计算方法得到了几种有代表性的高岭石结晶度指数，插层反应表明，结晶度指数的高低与插层反应的难易程度并不成正比，龙岩高岭石插层率和插层速率最大(HI=0.50)，萍乡高岭石次之(HI=0.18)，然后是Conwall高岭石(HI=1.29)，插层反应最难进行的是大同高岭石(HI=0.71.)。
2.根据结晶度指数的不同，选择Conwall高岭石、大同高岭石、龙岩高岭石和萍乡高岭石作为原料，以NMF为插层剂制备了高岭石插层复合物，层间距从0.717nm扩大到1.08nm。其中Conwall高岭石在、龙岩高岭石和萍乡高岭石、大同高岭石在反应时间分别为24h、10h、7d插层率达到90％以上。NMF分子的NH与Si-O键形成氢键，高岭石/NMF插层复合物在145℃以下是稳定的。
3.以高岭石/NMF为前驱体，以十二烷基胺为取代剂成功制备了高岭石/十二烷基胺插层复合物，层间距从1.08nm扩大为3.40nm。插层率达到81.8％。十二烷基胺的NH与高岭石的Si-O键形成氢键，复合物在250℃以下是稳定的。
4.在高岭石/十二烷基胺的基础上，用丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸为插层剂对高岭石进行插层，以偶氮二异丁腈为引发剂，在60℃条件下N2保护保温24h发生原位聚合反应，十二烷基胺被成功取代，成功制备了在C=C处发生共聚的高岭石/丙烯腈.甲基丙烯酸甲酯接枝共聚复合物。