抛光磨头是抛光机上最为核心的部件,其磨块与瓷砖直接接触,主要功能是实现对瓷砖表面的抛光和研磨。摆动式抛光磨头的磨块下表面呈圆弧型,工作时与瓷砖表面保持线接触,有效地增大了工作压强,提高了抛光效率。摆动式抛光磨头内部采用的两齿差外啮合双联行星齿轮系统和凸轮机构实现了主从动摆杆的往复摆动,而凸轮驱动形式在高速运动下产生的加速度冲击以及零件加工误差等都会影响到瓷砖抛光时的加工质量以及碎砖率。抛光磨头的动态特性与抛光机抛光作业时的碎砖率、抛光质量息息相关,改善抛光磨头的动态特性就能有效改善抛光过程中出现的一系列问题。抛光磨头的抛光作业是由多个磨头安装在一起,同时进给和摆动,摆动速度以及相关参数影响了抛光的效率以及能耗,故对其进行参数优化尽可能达到高效率低能耗,提高经济效益和社会效益。基于对抛光机工作原理、抛光磨头的结构和运动形式的分析与研究,建立抛光磨头的运动学数学模型,运用机械振动学理论,建立抛光磨头动力学数学模型,得到抛光磨头在抛光过程中的振动特性,从振动学角度分析了抑制振动方法的科学性。运用多体动力学理论分析了抛光磨头的磨块在抛光过程中的动态特性,得出其动态特性与抛光磨头转速之间的定性关系,并分析了抛光磨头在抛光过程中的漏抛和过抛情况,提出改善方法。搭建抛光磨头动态特性实验平台,针对抑制振动,通过实验并分析得到最优的抛光参数。本课题研究可为我国陶瓷抛光机的研究奠定一定的理论基础,为抛光机械行业的发展提供一定的参考价值。