无氢类金刚石(Diamond-like Carbon, DLC)薄膜沉积过程中有较多高能粒子参与成膜。参与成膜的高能粒子会导致多层光学薄膜的界面状态发生改变。研究薄膜界面层的变化规律及其与薄膜特性之间的关系,有利于进一步分析无氢DLC薄膜的光学损耗机理。本文在DLC膜界面层参数检测和分析方法的研究基础上,通过实验研究,分析讨论了组合沉积DLC膜工艺参数对界面层的厚度、折射率、消光系数等参数的影响,探讨了界面层参数变化规律,探索了薄膜界面层参数变化对薄膜透过率的影响。研究结果表明：1)采用非平衡磁控溅射(Unbalanced Magnetron Sputtering, UBMS)技术沉积DLC膜时,靶电流对界面层厚度的影响占主导地位；当靶基距从102mm增至162mm时,薄膜界面层厚度由56.7 nm减至44.2nm；当靶电流在0.5A-0.9A之间、励磁电流在40A-60A之间、真空度在0.5Pa-0.7Pa之间变化时,励磁电流对薄膜界面层的折射率、消光系数等参数的影响起主导作用。2)采用UBMS和脉冲真空电弧沉积(PVAD)两种方式组合沉积DLC薄膜时,两种方法制备DLC膜间的界面层有如下特性：在保持薄膜的整体光学厚度不变时,当PVAD技术沉积的DLC膜的厚度由74.8nm增至117.0nm,界面层的厚度由50.0nm增至62.0nm；界面层的折射率由2.426增至2.511；消光系数由0.0155减至0.0134；薄膜的透过率随着PVAD沉积的DLC膜的厚度的增加而增加。在2.0-5.0μm的波长范围内,在硅基底上单面沉积DLC膜最大透过率为66.77%。