伴随电子信息与通信技术的发展,金属软磁薄膜的适用范围越来越广。因为电磁器件不断地向高频化和小型化的方向发展,金属软磁薄膜需要在GHz的频段下有高磁导率、高的饱和磁化强度和高的磁各向异性,从而提高截止频率。铁钴基软磁合金拥有比较高的磁晶各向异性常数与比较高的饱和磁化强度,因而在传感设备、磁记录装置、电感器和变压器等高频电器件方面应用广泛。利用磁控溅射和分子束外延等制膜手段人们已制备出有良好的具有高频磁特性的金属软磁薄膜,但它们需要真空环境,所以成本比较高,很难适应大规模的工业化生产。与他们相比,成本低,设备简单的电化学沉积技术,已被广泛应用于工业生产。为了使其更好地服务于工业化生产,电化学沉积制备金属软磁薄膜的实验参数对薄膜磁性的影响还需要进一步的研究。在本文中,我们研究了电化学沉积条件,如沉积温度,沉积时间,沉积电位,添加剂对FeCo基软磁薄膜结构、成分与磁性的影响。1)本文使用电沉积的方法制备FeCoZr金属软磁薄膜,并研究了实验参数,比如溶液成分,外加磁场及激光划线处理对薄膜磁性的影响。通过改变溶液配比,使FeCoZr薄膜共振频率在1.1-2.9GHz间可调。通过激光划线处理及改变外加磁场,薄膜的各向异性场达到了1200Oe,共振频率达到6.6GHz。2)本文还利用电沉积的方法研究制备了FeCoCd金属软磁薄膜,并研究了沉积参数对薄膜磁性的影响,比如下列参数：沉积电位、溶液配比和沉积时间。通过变化上述因素,获得薄膜磁性能参数为：易轴矫顽力12.3Oe,难轴矫顽力5.3Oe,各向异性场60Oe,截止频率达到了3.2GHz。3)用电化学沉积的方法,在Cu片衬底和PET衬底上沉积FeCo薄膜,利用激光划线改变条纹宽度和衬底弯曲曲率的方法调节薄膜的各向异性场。在外部磁场不存在时,各向异性场可达432Oe。