【摘 要】
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多铁材料在信息储存、自旋电子器件,磁传感器以及电容、电感一体化器件等方面都显示出了潜在的应用前景,而用磁性元素对LiNbO_3薄膜的掺杂有望获得铁电铁磁性共存,将形成一种新型多铁材料体系。采用射频磁控溅射的方法,分别在Si(100)和Si(111)衬底上制备了LiNbO_3/SiO_2/Si多层结构薄膜,并采用X射线衍射仪(XRD)、傅里叶变换红外吸收光谱仪(FT-IR)和扫描电子显微镜(SEM)
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多铁材料在信息储存、自旋电子器件,磁传感器以及电容、电感一体化器件等方面都显示出了潜在的应用前景,而用磁性元素对LiNbO_3薄膜的掺杂有望获得铁电铁磁性共存,将形成一种新型多铁材料体系。采用射频磁控溅射的方法,分别在Si(100)和Si(111)衬底上制备了LiNbO_3/SiO_2/Si多层结构薄膜,并采用X射线衍射仪(XRD)、傅里叶变换红外吸收光谱仪(FT-IR)和扫描电子显微镜(SEM)对LiNbO_3薄膜的结晶取向、组成成分、表面形貌进行了表征,系统的研究了SiO_2过渡层对Li
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