活性钎料连接Si<,3>N<,4>陶瓷接头的组织与性能

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该文采用Cu-Zn-Ti和Cu-Pd-Ti两种新型活性钎料连接了Si<,3>N<,4>陶瓷,研究了不同钎焊工艺参数对钎焊接头的组织和性能的影响.采用三点弯曲法及X射线衍射、电子探针显微分析、透射电子显微分析、扫描电子显微分析和能谱分析等实验手段对陶瓷接头的连接强度、显微组织及接头弯曲断口进行测定、观察与分析,研究了第三组元在界面反应层中的溶解状况、界面处的成分分布、反应物的类型及结构,探讨了界面连接机制和接头断裂行为.以Cu-Pd-Ti为钎料,钎焊温度1423K、保温30分钟、Ti含量为15at.﹪被认为是最佳钎焊工艺参数,此时,钎焊接头强度为155.8MPa.用Cu-Pd-Ti钎焊的Si<,3>N<,4>陶瓷接头与用Cu-Zn-Ti时的不同,它由四部分构成:靠近陶瓷的反应层(TiN或Ti<,2>N)、反应层与钎料金属之间的连接层、焊缝中间的金属固溶体以及钎料合金中的反应物(TiN、Pd<,2>Si、PdTisi、Ti<,5>Si<,3>等).
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