ZnGa2O4基质的合成及Mn~(2+)Eu~(3+)对其光致发光性能的影响

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本文对镓基发光材料的现状和思路进行了分析,结合镓基发光材料的特点,选择镓酸锌基质发光材料作为研究对象。确定了以金属镓为主要原料,湿法合成制备出纯度大于4N的HGaO2、β-Ga2O3样品,并以此为原料,对ZnGa2O4、ZnGa2O4:Mn2+、ZnGa2O4:Eu3+三种发光材料的合成方法和光致发光性能进行了研究。 通过XRD物相检测、TGA-DTA检测和发光性能的检测,对合成样品的晶体结构、发光机理进行了探讨。 研究结果表明,在合成温度1200℃~1300C的条件下,用HGaO2比用β-Ga2O3、α-Ga2O3合成ZnGa2O4的发光强度更高。稍过量的Zn或Ga均能与ZnGa2O4生成固溶体,同时并不改变ZnGa2O4的尖晶石结构。Zn过量时能形成Zn(Ga1-xZnx)2O4化合物,结构中出现O2-空位;Ga过量时能形成(Zn1-xGax)Ga2O4,结构中出现Zn2+空位。ZnGa2O4是n-型半导体材料,晶格点间存在空位和离子,属于结构缺陷或晶体缺陷,发光机理属于半导体发光,发光能带间隙约4.4eV。ZnGa2O4属于自激活型发光材料,在合成过程中基质结构中可以形成两类自激活型发光中心,即[Td(Ga-O)]和[Oh(Ga-O)]两种发光中心,激发和发射光谱带都比较宽。Zn/Ga<0.60时,在约248nm处的最大激发和约367nm处的最大发射是尖晶石结构中镓氧健[Td(Ga-O)]的作用;Zn/Ga≥0.60时,激发和发射光谱峰位红移,在约270nm处的最大激发和约441nm处的最大发射是尖晶石结构中镓氧健[Oh(Ga-O)]的作用。 以合成的ZnGa2O4为基质,制备出ZnGa2O4:Mn2+绿色发光材料。Zn/Ga比值略小于化学计量值时,形成的(Zn1-xGax)Ga2O4基质对绿色发光较有利。基质中加入Mn2+后,掺杂Mn2+量的变化并不改变尖晶石结构,形成了(Zn1-x-yGaxMny)Ga2O4化学式。ZnGa2O4:Mn2+属于“复合型”发光材料。当Mn/Ga比值为0.008左右时,发光强度最大,激发光谱峰位于285nm,发射光谱峰位于504nm,产生强烈的4T16A1绿光发射。 以合成ZnGaZO;的条件为基础可以合成ZnGaZO,二Eu卜红色发光材料。认为,Zn/Ga比值略大于化学计量值时,形成的Zn(Gal一xZn:)20;基质对红色发光较有利。基质中加入Eu卜后,随着Eu3‘量的变化并不改变尖晶石结构,形成了Zn(Ga卜、一,zn:Eu,)204化学式。ZnGaZO4:Eu3‘属于“激活型”发光材料。当Eu/Ga比值为0.03左右时,发光强度最大,激发光谱峰位于275nm,发射光谱峰位于445nm和618nm。在445nm处发射产生于ZnGa204基质晶体结构,在618nm处是Eu3’基于勿。一‘FZ红光发射。 本文方法合成的ZnGaZO4蓝色发光粉、ZnGaZO、:MnZ‘红色发光粉具有相当的强度,己超出仪器的检出线,有应用价值。ZnGaZO;:E了红色发光粉不够理想,合成方法有待完善。
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