目的：通过对不同烧结次数氧化锆全瓷冠标准试件抗压强度的测试，探讨烧结次数对氧化锆全瓷冠抗压强度的影响，为氧化锆全瓷冠的临床应用提供依据。方法：1试件制备：采用精密车床加工制造模拟前磨牙预备体的金属代型一个，代型底座直径50mm，厚20mm，底座中央形成一个柱形金属预备体，直径5mm，高6mm，打磨抛光使其无锐利边缘。利用计算机辅助设计与计算机辅助制作(CAD-CAM)系统，将上述金属预备体放置于扫描仪中进行数字扫描，获取三维数据，同时计算机会将扫描结果记录下来，根据扫描结果，设计基底冠，控制车床车针切割研磨成品氧化锆瓷块形成高6.5mm，直径6mm，厚0.5mm的筒状基底冠25个，误差控制在±0.02mm，在烧结炉中烧结后备用。将氧化锆基底冠常规喷砂、清洗，热处理后，采用二次法烧结遮色瓷，并使遮色瓷厚度保持0.2mm~0.3mm。然后分别进行体瓷的涂塑，并按照厂家提供的烧结程序烧结；体瓷烧结完成后打磨调整厚度，使试件的最终总厚度为1.5mm，误差控制在±0.05mm。将试件随机分成5组，每组5个，记为A-E组，按照体瓷的烧结程序依此进行1、3、5、7、9次的烧结。每次烧结后均经自然冷却至室温后再进行下一次烧结。最后均自身上釉一次，完成试件制备。2抗压强度的破坏性试验：将上述各组试件按照分组依次至于万能材料测试机上，采用直径为6mm的球形压头，以１mm/min的速度加载于试件牙合面直至试件碎裂崩脱为止，并记录折裂时的力值。3统计分析：对所测得的破坏试验力值用SPSS13.0统计分析软件进行统计分析。首先进行正太性检验和方差齐性检验。呈正太性分布的资料以均数±标准差（X|-±s）表示。若呈正太性分布及方差齐性后再进行单因素方差分析，若非正太分布或/和方差不齐则进行变量变换后采用单因素方差分析或Kruskal-Wills H检验。当P<0.05时进行多个样本均数的两两比较。检验水准均为a=0.05，以P<0.05为有统计学意义。4扫描电子显微镜（SEM）观察各组试件断裂面的微观结构。结果：1各组试件破坏试验力值分别为：A组：（2401±184）N，B组：（2381±143）N，C组：（2284±95）N，D组：（1655±132）N，E组：（1603±95）N。2单因素方差分析结果显示不同烧结次数的氧化锆全瓷冠的破坏力值有显著性差别(P<0.01)。两两比较结果，A与D、A与E、B与D、B与E、C与D、C与E组的破坏试验力值差别有显著性（P<0.01)，其余任两组氧化锆全瓷冠的破坏试验力值差别无显著性(P>0.05)。3破坏试验后氧化锆全瓷冠断面微观结构：在300倍扫描电子显微镜下观察各组氧化锆基底瓷-饰瓷结合界面的微观结构，A组：界面结合紧密，平坦，少量小气孔。B组：界面结合紧密，平坦，少量小气孔。C组：界面较平坦，大小不等气孔散在。Ｄ组：界面不平坦，大气孔散在，长而不规则裂纹。E组：界面不平坦，大气孔散在，长而不规则裂纹。在1000倍扫描电子显微镜下观察各组饰瓷层断面的微观结构，A组：表面平坦均质玻璃样结构，少量小气孔。B组：表面平坦均质玻璃样结构，少量小气孔，少量短小微裂纹。C组：表面高低不平，刃状突起之间存在玻璃样结构，较多微裂纹，大小不等气孔分布。Ｄ组：表面高低不平，刃状突起之间存在玻璃样结构，较多微裂纹，较多大气孔分布。E组：表面高低不平，刃状突起之间存在玻璃样结构，较多微裂纹，较多大气孔分布。在1000倍扫描电子显微镜下观察各组氧化锆基底层断面的微观结构，A组：晶体排列致密规则，平坦，较少团聚体。B组：晶体排列致密规则，平坦，较少团聚体。C组：晶体排列致密，较多团聚体。Ｄ组：晶体排列紧密，较多山脊状突起，较多团聚体，团聚体边缘不规则。E组：晶体排列紧密，较多山脊状突起，较多团聚体，团聚体边缘不规则。结论：1随烧结次数的增加，氧化锆全瓷冠的抗压强度呈逐渐降低趋势。2临床应用时应尽量减少氧化锆全瓷冠的烧结次数，体瓷的烧结次数最好控制在5次以下。