激光打标的物理机制研究

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激光打标技术在近年来得到了快速的发展和广泛的应用,已经成为了一种重要的标刻手段。由于技术成熟、使用寿命长、加工精度好、效率高等优点,二氧化碳激光器和Nd:YAG激光器在激光打标中占有很大的席位。它们分别发射10.6μm和1.06μm的红外激光。但是某些材料对红外激光吸收率不高,为获得清晰的标刻效果,就需要增加激光光源的功率和重复率。这样做带来的问题是对材料的非标刻区的热损伤及热扩散比较严重、加工精度不高、打标效果不好。这些缺点在某些应用中是无法接受的,因此开发其它波长的激光打标光源就显得势在必行了。目前国内外都在大力发展紫外激光打标,如准分子激光和二极管泵浦紫外激光(DPSS)打标,由于某些材料(特别是金属材料)对紫外光的吸收大,并且由于紫外激光具有很短的脉冲宽度,激光对材料的作用只发生在材料的最表层,因此紫外激光被称为“冷激光源”。这样就弥补了以上两种红外激光器的缺陷。 本文试图从理论上研究激光光源打标的物理机制,并给出一些定量的计算结果对不同波长激光在不同材料上的打标效果进行理论比较。这对各种波长和不同材料打标参数的优化,提高打标质量和生产效率有着十分重要的意义。
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