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本论文采用大气压电离质谱和理论计算方法,对三类有机化合物的气相质谱裂解机理进行了研究。首先,研究了3-吡唑取代吲哚酮衍生物的质子化离子的质谱裂解机理。该类化合物的质子化离子碰撞诱导解离,产生质子化的3-(3-甲基-5-氧代-1H-吡唑-4(5H)-亚基)-二氢吲哚-2-酮离子(a)和质子化的5-甲基吡唑啉酮离子(b)。密度泛函理论计算表明,吡唑环N1原子是热力学最稳定的质子化位点,当质子从该位点转移到吡唑环Cγ原子上时,Cβ-Cγ键异裂,发生retro-Michael解离反应,生成碎片离子a和碎片离