随着现代科学技术的发展，在许多领域中提出了超光滑表面的要求，尤其是光学材料广泛应用的现代短波光学、强光光学系统和光记录器件等尖端科技领域。这种表面不仅要求表面粗糙度低，而且对表面损伤程度也有严格的要求。各国的科学家做了大量的工作，提出了许多获得超光滑表面的新方法。国外资料显示，等离子体加工光学表面技术是一种新兴的、有潜力的超光滑表面加工技术，它适用于光学元件的超精密加工。较之于传统的抛光技术，该技术的优点在于：非接触加工、精确可控、不产生亚表层损伤、加工不同面形难易程度相当。 本文立足于等离子体加工光学表面技术的基础研究，从科研实验的角度，提出了一种等离子体加工光学表面试验平台的设计方案并对之进行论证。试验平台的结构设计、部件选取、安装调试已经完成。 利用静电探针诊断了不同等离子体源在不同工艺参数下的离子密度和电子温度，得到了这两个参数在工件表面随气压和流量变化的空间分布曲线，分析了工件台接地和不同尺寸等离子体源对它们的影响。实验结果表明离子密度为10<7>～10<9>cm<-3>，电子温度在3～10ev之间；等离子体源高度和口径比值越小，等离子体越稳定；工件台接地时，可以明显增加该处离子密度和电子温度，等离子体源顶端沿径向分布的等离子体参数也得到改善。 在等离子体加工光学表面试验平台系统中用SF<,6>/Ar等离子体对K9玻璃和镀有SiO<,2>膜K9玻璃进行加工。实验结果表明，在相同实验条件下，对于镀有SiO<,2>膜K9玻璃的去除速率是K9玻璃的两倍还要多，并且加工后有更好的面形。