集成电路产业是当代电子信息产业的基础和核心,这一产业的发展不仅影响着国家信息化进程的节奏,还推动着其他传统行业的转型升级。但目前来说,中国作为全球对集成电路需求最大的市场,在产业方面的发展却不如人意。当前存在的主要问题有:进口依赖严重,产业结构不合理,技术匮乏。本文以我国集成电路产业上市公司为研究对象,对其在2011年至2015年的创新效率进行了两步法研究。第一步,采用DEA分析法,以研发人员数量、研发支出合计作为创新活动投入,以企业的专利申请数、专利被引证数、专利族规模、总资产净利率作为创新活动产出,同时引入两年的创新迟滞,测算了公司创新效率值。第二步,以创新效率值作为被解释变量,运用Tobit回归对创新效率的影响因素进行分析,选取的解释变量有员工受教育程度、公司并购、公司规模、市场集中度、股权性质、股权集中度、政府扶持。通过分析,本文得出以下主要结论:从行业整体来看,集成电路产业的公司创新效率正在不断提升,当前对创新效率的限制主要来自于纯技术效率低下;我国集成电路公司创新规模报酬的红利有可能即将走向终点;产业链上不同环节的创新效率差异明显,大体呈现从高到低依次为设计、材料、封测、制造、设备的排序;通过对创新效率的影响因素分析可知公司员工教育程度、公司并购、公司规模、市场集中度、政府扶持均会对公司创新效率的提高带来正向影响;在股权结构方面证实民营企业比国有企业创新效率更高,股权集中度与公司创新效率之间表现为倒“U”型关系,前十大股东持股比例的参考临界值为64.61%。基于上述结论,本文提出以下建议:对企业而言,要理性投入研发资源,提高研发资金的边际效率;以人为本,引进优质人才;通过公司并购,加快研发进程;适当分散或集中股权,以提高公司创新效率。对宏观政策而言,要加大产业扶持力度,重点扶持芯片制造及上游设备制造环节;提高市场集中度,培育行业龙头。