四硫富瓦烯修饰的降酞菁衍生物的合成和性能研究

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四氮杂卟啉和酞菁类衍生化合物,由于其光、热稳定性较好,且耐酸碱腐蚀,是一个电子高度离域化的共轭大环体系,该体系具有良好的分子间和分子内电荷转移的性能,因而引起广大科研工作者极大的重视。到现在为止,大量的的对称四氮杂卟啉和酞菁类衍生化合物,已经被广泛地合成和性能研究;然而对于降酞菁化合物(不匀称的四氮杂卟啉和酞菁衍生化合物)的研究报道却很少,这主要是因为降酞菁衍生物及其化合物的反应合成难度较大和产物的分离提纯十分困难。近几年来,由于降酞菁在L-B膜材料、电子传输材料、光学非线性材料等方面的广泛应用,受到越来越多的科研工作者的关注。本论文首先介绍了有关酞菁类和四氮杂卟啉类衍生物及其化合物的性质和应用;随后着重介绍了四硫富瓦烯-酞菁、四硫富瓦烯-四氮杂卟啉的研究现状和进展情况,并对其分别进行了归纳总结。我们以二氰基取代硫杂冠醚并四硫富瓦烯(TTF)衍生物和邻苯二腈为原料,经过模板环化合成结构新颖的单TTF修饰降酞菁冠醚衍生物12,13。并利用1H-NMR、13C-NMR、MALDI-TOF-MS、红外光谱等手段证实了其结构。通过电化学研究发现,化合物具有两个单电子的准可逆氧化峰,一个单电子的不可逆氧化峰和两个单电子的不可逆还原峰,表明化合物具有良好的π电子给出性能。通过紫外吸收光谱研究,化合物12和F4TCNQ可以组成一个电子转移体系,在750-960 nm之间,有明显的吸收峰。通过EPR和量化计算,表明化合物12具有分子间电子转移性能。化合物13也具有相类似的性能。
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