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本文用标度阶乘矩的方法对12A GeV4He诱发核乳胶核反应靶核反冲质子发射过程中的非统计涨落进行了实验研究,得出靶核反冲质子在发射角和方位角一维及二维相空间的多重数标度阶乘矩。首先在一维相空间利用水平、垂直阶乘矩法对12A GeV4He诱发乳胶核反应靶核反冲质子发射过程中的非统计涨落进行研究,结果显示:由于相空间内不均匀的粒子分布,发射角、方位角空间都存在非统计涨落。考虑了该影响后,对标度阶乘矩做了修正,修正后结果显示,不存在非统计涨落。真正的靶核反冲质子发生在三维空间,维度的降低将会消弱涨落现象,所以上述在一维相空间的分析不足以作出结论性地评定。随后,我们研究了二维相空间内的动力学涨落,结果表明:不考虑相空间内粒子分布的不均匀性,水平和垂直阶乘矩均随相空间分隔数的变化表现出先增加后趋于饱和的趋势,即靶核反冲质子在二维相空间的发射过程存在非统计涨落。同样考虑在二维相空间内单粒子密度分布的不均匀性,利用累计变量法重新计算得出水平和垂直阶乘矩随相空间分隔数的增加而减小,结果进一步证实靶核反冲质子在二维相空间的发射不存在非统计涨落。通过对一维相空间阶乘矩和二维相空间阶乘矩的分析,最后得出结论,12A GeV4He诱发乳胶核反应靶核反冲质子发射过程无间歇性行为,即不存在非统计涨落。