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近年来,随着智能手机、平板电脑等高端电子产品的出现,要求印制电路板(PCB)的走线越来越窄,目前部分PCB产品的线宽已经小于10gm,今后10内10μm左右线宽的PCB将越来越流行,这类高密度PCB有着很好的市场前景。传统的汞灯照明+接近式曝光方法已经不能胜任这类高密度PCB生产的要求,为应对今后高端电子产哭品对大面积高密度PCB需求,需要快速改进目前的PCB生产设备,并从经济方面考虑,研究出一些价廉物美的PCB生产设备,以满足我国PCB行业需求。本文重点研究10μm左右线宽的大面积高精密光刻机,主要内容包括投影物镜、和精密二维位移平台。本文第三章介绍了了一种分辨率为4μm的DMD投影物镜的设计。该投影物镜的单次曝光面积Φ=5mm,该投影物镜可以用于10μm左右线宽PCB的掩模板生产,适用于10μm左右线宽PCB的小规模打样,也可用于TFT-LCD的生产；本文第四章介绍了一种分辨率为8μm的等比投影光刻投影物镜设计,该投影物镜的单次曝光面积Φ=40mm,可以用于10μm左右线宽PCB的大规模生产,也可用于ITO-LCD的生产；本文第五章介绍了一种坐标反馈大行程精密二维位移平台设计,该平台的的行程为1100*600mm,定位精度达2μm,满足大面积高精密PCB的生产要求。该平台的驱动方式采用本文独创的爬行牵引方式,可以使制造成本减少1/3以上,有着很好的应用前景。通过ZEMAX光学设计软件模拟,得到DMD光刻投影物镜在空间频率为125line/mm处的MTF>0.62,表明该投影物镜具有优于4μm的分辨率；通过离焦MTF分析,表明在空间125line/mm处,离焦量在-0.011到+0.017的范围内,MTF>0.5,表明该投影物镜至少有28μm的焦深。通过ZEMAX光学设计软件模拟,等比投影物镜在空间频率为64line/m处的MTF>0.56,表明该投影物镜具有优于8μm的分辨率；通过离焦MTF分析,表明在空间125line/mm处,离焦量为-0.06到+0.02的范围内,MTF>0.5,表明该投影物镜至少有80μm的焦深。文章最以表格方式后列出了精密位移平台的重要配件,今后可直接选用这些配件,对位移平台加工制造有很大的帮助。