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通过磁控贱射在玻璃基底上制备出了的厚度约为630 nm氧化锌(ZnO)薄膜,在室温下用能量为140 keV,剂量为2×1016 cm-2的氮(N)离子对该膜进行注入。注入后的样品在200到600℃范围内真空退火1小时。分别采用了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、电子能量色谱仪(EDX)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、荧光分光光度计(PL)和物理性能测试系统(PPMS)等分析手段对各种处理条件下的ZnO薄膜进行了分析,详细的研究了它们的结构特性、表面形貌、化学成分、光学性质和电学