Fe-Zr-B-Cu合金是迄今报告的具有最高饱和磁感的非晶纳米晶合金。其薄膜化的研究意义重大,且目前在国内外还是一片空白。本课题采用磁控溅射的方法,制取Fe-Zr-B-Cu非晶合金薄膜。用正交试验方法研究磁控溅射的工艺因素:溅射功率、溅射气压、基片到靶材的距离等对Fe-Zr-B-Cu非晶合金薄膜制备效果的影响;使用SEM能谱仪研究获得Fe-Zr-B-Cu非晶合金薄膜的成分;借助XRD研究溅射所得薄膜的结构特征;利用AFM得到制备薄膜的表面粒径分布状态以及表面粗糙程度。借此得到:①本实验中靶材合金组分配比最优方案为Fe:84 at%、Zr:7 at%、B:8 at%、Cu:1 at%,所得粉末压制靶和烧结靶的结构其横断面均呈多层状态,层与层之间呈现出不同的形态和致密度,而烧结靶则显示出最优的制膜效果;②磁控溅射制备Fe-Zr-B-Cu非晶合金薄膜的优选工艺条件为,基片到靶材的距离60mm、工作气压1.37Pa、溅射功率100w;③对制备态的Fe-Zr-B-Cu非晶合金薄膜采取530℃退火1小时的热处理工艺,可以获得薄膜的最佳力学以及磁性能。