随着特征尺寸深入到微/纳米量级，由于尺寸效应和表面效应的影响，微摩擦和粘附问题成为影响M/NEMS快速发展的关键因素微构件表面织构化是M/NEMS摩擦学设计的一个研究热点激光干涉光刻作为一种新兴的微织构加工手段，具有设备结构简单效率高和大视场曝光等优点本文通过激光干涉光刻的方法在单晶硅表面构筑了不同类型和尺寸的微织构，并利用AFM对织构化硅表面进行了摩擦性能测试，主要研究工作内容及成果如下1从麦克斯韦光电方程组出发，对干涉光强分布的基本表达式进行了理论推导利用MATLAB软件模拟了双光束单曝光双光束双曝光的干涉光强分布，同时分别对不同曝光剂量双光束单曝光双光束双曝光干涉光刻及双尺度复合织构光刻进行了研究，实验结果表明：激光干涉光刻用于制备大面积的周期性条纹孔阵列柱阵列及双尺度复合织构具有可行性2以计算机模拟结果为依托，自行设计并搭建了双光束激光干涉光刻实验系统，开展了对激光干涉光刻的研究利用双光束单曝光和双曝光干涉光刻分别在光致抗蚀剂表面制备出条纹和网格图案，并采用化学湿法腐蚀的方法将其成功复制在单晶硅(100)表面，图形转移质量较好；通过改变光束入射角θ，在硅表面实现了不同周期条纹和网格织构的构筑；改变曝光剂量，严格控制显影时间和刻蚀时间，得到了不同尺寸的条纹和网格织构，且随着曝光剂量的增加，网格织构逐渐由孔阵列演变为柱阵列；介绍了两种双尺度复合织构的制备方法，并取得了良好的实验结果3利用原子力显微镜对不同类型尺寸织构化的硅表面进行了摩擦性能测试结果发现：(1)对于探针-平面接触，织构化表面的摩擦力均大于光滑表面，且随着条纹织构覆盖率的增大，摩擦力逐渐减小；(2)对于胶体球-平面接触，织构化表面均具有减摩抗粘的作用同时，利用原子力显微镜在C-AFM模式下，探讨了外加电场对硅表面摩擦力的影响，结果发现：当偏压为正值时，随着偏压的增大，摩擦力表现为先减小后增大