纳米薄膜是一类具有广泛应用前景的新材料，在最近几年中引起了广泛的关注，利用新的物理化学性质，新原理，新方法设计纳米结构器件和改性纳米复合材料正孕育着新的突破。硅基片是半导体工业的一种非常常用的基材，以硅作为基片的超薄纳米薄膜材料及可控生长具有固定形貌的薄膜的制备成了人们研究的热点，这两种薄膜也是半导体工业可持续发展的基础。 扫描探针显微镜技术的出现和发展，使得人们开始不仅能够在接近原子尺度上研究导体，半导体，而且成为了研究纳米薄膜必不可少的一个重要的工具。 本文在硅基片上利用自组装的方法制备超薄的氧化铁纳米膜和用液滴干燥的方法制备氧化铁的不同的自组装薄膜图案，并且用扫描探针显微镜作为主要研究工具对其形貌进行表征研究。本论文主要完成了以下几方面的工作： 1．对扫描探针显微镜成像的影响因素进行了系统分析，实验总结了多种纠正扫描变形的方法，并重点分析了多种情况下AFM探针针尖对扫描成像的影响，对针尖在扫描紧密排列的颗粒时发生的变形，建立了修正的数学方程。 2．利用固体表面液滴干燥的方法在硅基表面制备氧化铁的不同的自组装薄膜图案，研究了硅基表面亲水性、溶胶浓度、干燥温度对表面薄膜图案的影响，并且用扫描探针显微镜作为主要研究工具对其形貌进行表征研究。 3．利用氧化铁溶胶颗粒生长特性和分子膜自组装的方法在硅片基底上制备了超薄氧化铁薄膜。实验证明，利用该方法制备的氧化铁薄膜，致密度高，表面粗糙度只有普通方法所制备的氧化铁薄膜的二十分之一，组成薄膜的氧化铁颗粒粒径小于10纳米。燥