随着薄膜材料和技术的不断发展,准确而快速地测量薄膜的光学常数和厚度受到了人们的广泛关注和重视.但对某些吸收性很强或厚度极薄的样品,采用普通的测试方法无法实现,而椭偏术恰能弥补此不足,且还具有较多的诱人优点故备受青睐.特别在纳米技术迅速发展的今天,这种能准确测量纳米级薄膜技术的椭偏术在众多的领域中更是扮演着举足轻重的作用.有效避开伪解,寻找到真值,提高薄膜参数的精度一直是具有非破坏性和高灵敏度的椭偏测量术的难点,解决此问题具有十分重要的科学应用价值.该论文依据椭偏测量法的求解过程,主要针对模型的有效选取、数值优化反演算法的选择和椭偏参数测量精度的提高三方面,分别进行了分析和讨论,其目的是通过对它们的分析从而进行有效的选择,以达到经过各个部分的改进最终提高求解结果中薄膜参数值的精度.论文首先系统讨论了模型有效选取的重要性、选取办法以及应注意的椭偏参数灵敏区域和入射角的选择:其次,基于前人研究模拟退火算法的基础上,针对其不足之处提出了采用两种不同的测量误差的方法并进行了研究,其结果有明显改善.最后,提高椭偏参数的测量精度是该文的重点.针对多角度入射法中入射角选取不恰当得到伪解多解的情况,文章以统计误差和系统误差两方面为突破口,提出了多次数测量法和引入了内外反射法,并首次将内外反射法与模拟退火优化算法相结合对吸收薄膜进行了大量计算模拟和实验测量,其结果收敛稳定、薄膜参数精度能得到有效提高,效果明显优于多角度入射法.当把内外反射法、模拟退火算法和多次数测量法相结合时,效果将更佳.