磁控溅射制备纳米复合Ti-Si-N薄膜的研究

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纳米复合薄膜钛硅氮(Ti-Si-N),以其优异的机械、热学性能,拥有广泛的应用前景,一直是硬质材料研究领域的热点。而许多学者的研究重点一直是硬质基底材料上制备,对于在软基底上的研究制备少有报道。本文正是基于此,通过JGP-280型单靶磁控溅射和JGP-450A型三靶磁控溅射系统,在不同工艺下,在金属软基底A1上制备了Ti-Si-N薄膜,同时为了方便表征引入Si(100)基片,并采用电子探针、原子力显微镜、X射线衍射、纳米压痕、摩擦磨损和膜基结合力测试对薄膜的化学组分和物理性质进行了表征。得到
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金刚石膜高的硬度、热导率、载流子迁移率、化学稳定性等优异的物理化学性能使其成为极具发展前景的新型材料。化学气相沉积(Chemical vapor deposition, CVD)金刚石因与天然金刚石具有相近的优异性能而受到各领域的广泛关注。随着科技的发展,各种应用领域对CVD金刚石膜的质量与尺寸要求不断提高,对沉积大面积高质量CVD金刚石膜的装置和工艺参数进行系统深入的研究势在必行。微波等离子体化
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