硅基择优取向铌酸锶钡薄膜的磁控溅射沉积研究

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四方钨青铜结构的铌酸锶钡(Strontium Barium Niobium SBN)以其较大的线性电光系数、较高的光折变性能灵敏度和热释电系数广泛应用于电光调制器、全息成像存储器和红外热释电探测器等方面。透明导电薄膜氧化铟锡(ITO)作为光电子科技领域的主要光学材料之一,已经广泛应用于太阳能电池透明电极、体液晶显示器PLCD、电磁屏蔽层、飞机和汽车风挡防霜雾玻璃、建筑用节能玻璃窗等诸多领域。SBN和ITO具有广阔的应用前景,因此对于这两种材料的制备及性能表征将在光电子材料与器件领域具有重要的作用。
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