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Ni81Fe19合金薄膜因具有高饱和磁化强度、低矫顽力、低铁磁共振线宽等特点，被广泛应用于微波/毫米波器件中，如：带通滤波器、带阻滤波器等。本文分别采用磁控溅射法和电子束蒸发法制备NiFe薄膜，研究了制备工艺对薄膜显微结构、静态磁性能及微波磁性能的影响。1.采用直流磁控溅射法制备NiFe薄膜，研究了基片种类、基片加热温度、薄膜厚度及Cu缓冲层与覆盖层厚度对薄膜微观结构、静态磁性能及微波磁性能的影响。结果表明：在低溅射功率下，薄膜的取向与基片种类及晶向无关；适宜的基片加热温度可有效改善薄膜的微