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同步辐射X射线光刻掩模新型材料研究
同步辐射X射线光刻掩模新型材料研究
来源 :中国科学技术大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:errand2000
【摘 要】
:
该论文使用微波化学汽相沉积系统优化生长了能满足同步辐射X射线光刻掩模要求的金刚石基底,在国内首次制作成功了金刚石基底掩模.同时,作者也对金刚石膜的制备工艺与结构的关
【作 者】
:
韩祀瑾
【机 构】
:
中国科学技术大学
【出 处】
:
中国科学技术大学
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
同步辐射
X射线
新型材料
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该论文使用微波化学汽相沉积系统优化生长了能满足同步辐射X射线光刻掩模要求的金刚石基底,在国内首次制作成功了金刚石基底掩模.同时,作者也对金刚石膜的制备工艺与结构的关系进行了研究,并对金刚石膜和金刚石基底掩模的力、热学性质也进行了探讨.
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