无机颜料细化工艺及其光谱性能研究

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当前武器装备面临多波段侦察探测和精确制导威胁,而武器装备的伪装仍存在着许多不足和难题,发展多波段兼容的伪装涂料成为当前十分迫切的需求,其中可见光-红外波段兼容是多谱段伪装的关键技术和难点。可见光-红外兼容伪装涂料需要解决的问题是:在不影响迷彩层选择性反射光谱的情况下,提高迷彩层的红外透明性,使得低发射率层尽可能地降低整个涂层发射率。本论文以Mie散射理论和Kubelka-Munk反射理论为理论依据,通过减小颜料粒径来提高迷彩层的红外透明性。本文通过砂磨机制备出微纳米铬绿颜料,采用刮涂法在黑、白卡纸和铝箔上制备涂层,通过分光光度计和傅里叶红外光谱仪研究颜料粒径对可见光、近红外和红外光谱的影响规律。采用砂磨机机械研磨法制备微纳尺度铬绿颜料。首先,基于塑性位错理论对搅拌磨机的有用功率进行了理论研究,确定砂磨机工作参数为研磨介质粒径、研磨时间、转速和研磨介质填充率,并制定L1644正交实验方案;其次,利用极差法分析出各影响因素对颜料粒径的影响大小,其结果为转速(6.26)>研磨时间(3.68)>研磨介质填充率(1.232)>研磨介质粒径(0.96),在优化参数转速为3000r/min、研磨时间为240min、研磨介质填充率为85%、研磨介质粒径为0.7mm下,制备出D90:336nm且分布窄的铬绿颜料;最后,在优化参数下,分别研究了转速、研磨时间、研磨介质填充率和研磨介质粒径对颜料粒径的影响,其中可控制备所需粒径颜料的方法是:转速为3000r/min、研磨介质填充率为85%、研磨介质粒径为0.7 mm,通过控制研磨时间制备所需粒径颜料。颜料粒径对涂层可见光、近红外光谱性能的影响。随着颜料粒径减小,对光谱的影响:在黑、白卡纸上涂层的反射光谱强度增大,展色性更好,受基底反射影响降低,呈现出铬绿本真的反射特性。对亮度值及遮盖力影响:在黑、白卡纸上涂层的亮度值分别呈现增大和降低且二者差值越来越小,其遮盖力逐渐增强。在相同体积分数5%下,铬绿颜料粒径D90为10μm和0.4μm的涂层完全遮盖的涂层厚度分别为30μm和25μm,颜料用量减少16.67%。颜料粒径减小,迷彩层可见光、近红外反射强度提高,颜料用量减少。颜料粒径对涂层红外光谱性能的影响。随着颜料粒径减小,对光谱和发射率的影响:散射强度增大,红外透明性增加,涂层受铝箔基底高反射影响较大,故整个涂层反射光谱强度增大,发射率呈现降低的趋势。在相同遮盖力情况下,涂层发射率随着颜料粒径减小而明显降低,在相同遮盖力情况下,粒径D90为10μm、5μm、1μm、0.8μm、0.4μm的涂层在35μm、814μm和2.525μm的发射率依次为0.544、0.499和0.523;0.520、0.510和0.508;0.54、0.463和0.509;0.446、0.36和0.414;0.384、0.355和0.375。粒径0.4μm涂层相对于10μm在35μm、814μm和2.525μm发射率依次下降了29.4%、28.9%和28.3%。研究表明,颜料粒径的减小,有利于提高迷彩层的红外透明性。
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