本文提出了一种基于微尺度下流体分层流动现象的微流道内无掩膜流动刻蚀方法。此方法的原理是利用PDMS微流道对平板玻璃进行约束刻蚀，在PDMS微流道内通入刻蚀剂和隔离剂并保持层流状态，通过调节刻蚀剂和隔离剂的流动参数可以在平板玻璃上加工出高深宽比的微结构，从而实现了不利用光刻技术对玻璃进行微加工。通过对玻璃基体材料进行大量的工艺实验，明确了流动参数对于刻蚀成型微结构深宽比、侧壁形状、刻蚀速率的影响。证明了可以通过改变刻蚀剂与隔离剂的流动参数实现对成型微结构形貌的控制。本实验的结果表明约束流动刻蚀工艺可以在玻璃基体材料上加工出形态复杂、大深宽比的微结构，微结构的形貌取决于微流道中流体的流速。本实验的结果对于微尺度下分层流动的特性研究有一定的参考价值，并可为解决各向同性材料的微结构加工难题提供有效的解决方案。　　 论文的主要内容如下：　　 第一章，综述了微机电系统和微流控系统的相关背景知识，重点阐述了现有玻璃微流控芯片加工技术及其不足之处，提出了无掩膜流动刻蚀技术。　　 第二章，阐述了无掩膜流动刻蚀技术的原理，提出了利用PDMS微流道加工高深宽比玻璃微流道的方法。　　 第三章，完善了基于SU-8胶的模具制备工艺和PDMS-玻璃微流控芯片的制作工艺。　　 第四章，利用PDMS微流道对玻璃进行约束刻蚀工艺实验。对微流道中流体流速与微结构形貌之间的关系进行了定量研究，并且分析了刻蚀成型微结构形貌随时间发展变化的规律。　　 第五章，结论与展望。无掩膜流动刻蚀技术可以加工高深宽比的玻璃微结构，并能为各向同性材料的微结构加工提供一种有效的解决方案。