低敏青霉素钠生产过程监测体系的构建及聚合物测定方法的研究

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青霉素过敏仍然是当前临床常见的药物不良反应。患者因体质、用药途径等因素的差异,过敏反应的程度不尽相同,最严重的发生过敏性休克。研究表明,青霉素中的高分子杂质(外源性蛋白和聚合物)是引发过敏的主要原因。随着多年来的工艺改进,残留蛋白日趋减少已经不再是致敏的主要因素,抗生素自身聚合形成的内源性高分子杂质成为潜在的致敏威胁。本论文重点在于建立质控指标,实现对青霉素钠的生产过程控制(PAT),结合生产实际分析青霉素样品,锁定关键杂质及其产生的工艺步骤。通过优化工艺条件去除高分子杂质,达到提高产品质量,降低过敏反应发生率的目的。文中采用凝胶色谱法和HPLC方法分析青霉素样品(生产取样和国产青霉素产品)中聚合物杂质和有关物质的含量、组成。为了全面地分析青霉素样品,本文建立了二维色谱系统,使用柱切换技术分析青霉素生产过程中的关键杂质。柱切换结果证明A7是中国药典控制聚合物色谱峰的主要组成,具有较大的分子量。聚合物杂质A7源于生产过程而且可控,不含该杂质的样品中有关物质和聚合物含量较低,说明A7具有成为青霉素生产过程控制的指针性杂质的特点。仅有少数样品中不含该杂质,这也说明国产青霉素产品质量尚有可提升的空间。因此,以A7为质控指标跟踪监控生产过程,以去除A7和尽量降低其他有关物质为目的调整生产工艺。该体系也适用于其他抗生素品种聚合物分析的评价考察。自身对照外标法是我国自主开发的控制抗生素聚合物杂质的方法。文中利用柱切换考察凝胶色谱聚合物色谱峰的组成,从应用方面补充说明了聚合物测定系统的合理性。凝胶色谱系统中的一些实验现象不同于现行的空间排阻和自身对照外标法(ESMOROS)的理论,文中结合不同化学结构溶质的凝胶色谱保留行为,推断该法“自身对照外标”现象并非由于溶质分子间发生“缔合”,而是因为水分子和凝胶基质的相互作用“封闭”了分子筛使得溶质表观分子量增大,这也从理论上探讨自身对照外标法的原理。
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