一种基于深亚微米刻蚀槽的Slot-DBR半导体激光器的设计和制作

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随着互联网功能的极速发展,互联网经济在社会经济中的重要性和线上生活对于人民日常生活中的重要性都在与日剧增。伴随而来是社会要求互联网通信速率日益提高和通信成本的逐渐下降。但于此相反的,铜材等传统通信所依赖的不可再生资源日益的紧缺和价格上涨,带来传统通信网络架设成本的极速提高。在此前提下,以光缆为传输介质的光通信系统以其通信速率高,可扩展性好和可靠性高当仁不让的成为了新一代通信网络的主要选择。随着通信带宽的日益提高,目前主流的光通信系统从多模光纤通讯及CWDM (Coarse Wavelength Division Multiplexer,稀疏波分复用系统)发展到了单模光纤通讯及进一步的DWDM (Dense Wavelength Division Multiplexer,密集波分复用系统)。这一发展趋势有效地提高的所布下光缆网络的利用率,在基本不提高布网成本的前提下提升了通信速率。随之而来的是对通信光源的数量需求和成本要求的日益提高。单模波长可调谐半导体激光器以其低廉的制造成本和可靠的性能,成为了DWDM系统大范围推广的首选光源之一。随之而来的,是对大范围波长可调谐半导体激光器的大量需求。传统的波长可调谐半导体激光器通常以DFB激光器阵列、DBR激光器、SG-DBR激光器等为主。其中DFB激光器阵列,单个激光器调谐范围较小,需要依靠阵列实现大范围调谐;DBR类激光器多需要纳米压印、电子束光刻、二次外延等高成本的工艺技术;这些选择不同程度上都具有生产成本高,工艺复杂的缺点。本文介绍了一种基于深亚微米刻蚀槽的Slot-DBR半导体激光器的设计和制作方法。使用传统的光刻工艺制作深亚微米刻蚀槽及由其构成的波长可调谐半导体激光器,在保证低制作工艺成本前提下的高性能激光器制作。本文提出了使用传统工艺制作深亚微米刻蚀槽,采用深亚微米刻蚀槽作为激光器中分布式反射器的优势,以及此新型激光器的测试平台、方法和数据。最后,本文还对此型激光器的性能优势和发展提出了分析。
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