【摘 要】
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本文从理论和实验两个方面研究了玻璃基光刻铬掩膜板的膜系设计以及其在真空环境中的制备。以光学薄膜设计中的隐含规律为基础,采用递推法,并在特定的边界条件下分别对单层及
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本文从理论和实验两个方面研究了玻璃基光刻铬掩膜板的膜系设计以及其在真空环境中的制备。以光学薄膜设计中的隐含规律为基础,采用递推法,并在特定的边界条件下分别对单层及多层吸收膜的反射和透射变化进行了求解和理论计算。同时,在膜系设计中,借用Essential MacLeod软件进行膜系设计,以寻求获得满意光学性能的膜系结构。我们进行了多次薄膜样品的生产实验,并对镀膜产品进行了一系列性能测试。结果表明,在分别采用氮气和氩气作为工作气体时,生成的膜层成分均为铬和氧元素,并没有氮化铬生成。在控制总工作气压不变的情况下,控制每种工作气体氮气、氩气和氧气体积流量时,生成的膜层表面晶化状态差异很大,膜层中Cr(110) 和Cr2O3(110) 晶向择优生长,通过刻蚀实验证明,在Cr(110) 和Cr2O3(110) 晶向生长相当的膜系力学刻蚀性能最佳。研究表明,以膜系设计的结果为参照,实验所镀膜层光学性能优异,满足刻蚀产品的要求,具有广阔的应用前景。
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