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该文对PCVD等离子体化学气相沉积设备进行了系统的研究.所研究的PCVD设备是在低真空的条件下,三种反应气体:氮气、硅烷、硼烷,通过射频电场形成等离子体环境,从而在较低温度下,在发动机汽缸磨擦表面上进行镀膜.该文以对设备研究为目的,先叙述了PCVD等离子体化学气相沉积技术的提出、发展状况及研制该设备的意义,然后将该设备分成四个部分进行研究:真空系统、加热系统、高频电源及控制系统.