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爱立信:构建连接，让无限畅想成为无尽可能
【机 构】
：
电子报
【出 处】
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电子报
【发表日期】
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2021年01期
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电流体按需喷印（Electrohydrodynamic Drop-on-demand Printing）是近年来快速发展出来的微纳液滴喷射成型技术,被视为微纳3D打印的重要发展方向。由于微纳结构制造工艺对液滴的精度与生成频率均提出了极高要求,如何高频稳定喷射高分辨率液滴一直是按需喷印技术的研究热点。但是,实验研究受到电喷印的整个过程时间短（毫秒级别）、微纳尺度、液面捕捉困难等问题的影响,各参数对喷
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我国在引入三代非能动压水堆技术,研发自主化反应堆时,同时也需进行程序和实验验证确保一定的安全性,具有典型代表性的试验台架APEX可以提供大量的数据支持,而目前针对该台架使用BEPU方法进行整体分析的研究较少,所以有必要基于BEPU方法对非能动安全特性进行实验验证和程序量化评估。本文基于BEPU的传统PIRT开发新型M-PIRT,并针对先进非能动三代压水堆的典型代表性试验台架APEX,采用两种主流最
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信息技术的发展使得通信行业在数字信息化丝绸之路建设中的地位不断提升,自身发展较为迅速。但与此同时,通信企业内部管理中存在的问题日益凸显,借助内部控制来提高企业管理水平已经是当前通信企业的长期经营目标。然而由于受以往遗留管理习惯、思维认知等多方面的影响,通信企业内部控制体系还不够完善。基于此,在综合考虑通信行业经营特点的基础上,本文从内控环境、制度以及自评效果等角度来分析当前通信企业内部控制中存在的
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高雷诺数风洞试验在大型飞行器设计研发中扮演着至关重要的角色,而通过液氮喷雾降低风洞内温度是目前提升风洞雷诺数最为经济有效的方法之一。液氮的雾化效果直接决定着风洞流场和温度场的均匀性,因此,对射流雾化过程的深刻理解是提高喷雾冷却过程传热性能和流场均匀性的先决条件。尽管国内外学者在理解射流雾化过程方面做了大量工作,但是低温流体中热作用和气动作用的耦合及两者的相互影响还有待进一步探索。针对液氮射流雾化及
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聚变装置中高能的中子辐照对壁材料的抗辐照性能提出了巨大挑战。金属钨由于其具有高熔点、低嬗变率、低氚滞留率等优点,被视为聚变装置的最佳第一壁材料,其中子辐照研究受到广泛关注。钨在高能中子辐照下会产生大量缺陷,在缺陷的扩散和相互作用下,钨的微结构会发生变化,宏观热力学性能随之发生变化。然而,由于高能中子流的缺乏,目前钨中子辐照研究主要以裂变中子辐照实验模拟、离子辐照实验模拟和多尺度计算机模拟三种形式进
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在湍流燃烧的研究当中,无论是实验还是数值模拟,经常需要定义特征火焰面以及识别出相应的反应区域。但在以往的研究中,使用的方法或多或少存在问题:在实验中能够测量的变量非常有限,而且很难得到完整流场的数据,测量准确性受实验条件的限制;数值模拟虽然可以提供多种变量的全流场数据,但通常只选择某一变量的阈值进行定义,有较大的主观性。而将机器学习方法和大涡模拟（LES）仿真结合起来,对湍流燃烧场中的火焰进行识别
学位
在氨磺酸体系中，改变镀液pH值在紫铜表面制备镍镀层。通过扫描电镜（SEM）、线性极化曲线（LSV）、塔菲尔曲线（Tafel）、电化学阻抗谱（EIS）和计时电位法（CP）等方法对镍镀层的微观形貌、析氢性能和稳定性进行了测试。结果表明，当镀镍液的pH值为3.8时，镍镀层结晶细致且均匀，优化后的镍镀层暴露出更多的电催化析氢活性位点，在碱性电解液中表现出最佳的析氢性能，同时具有良好的析氢稳定性。
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＜正＞南京电子器件研究所基于国产半绝缘SiC衬底研制出了高质量152.4 mm （6英寸）GaN HEMT外延材料。采用高温成核层调制生长技术,有效降低了大尺寸GaN外延材料的位错密度和圆片翘曲度,并利用温流场调控技术,大幅提升了片内均匀性,突破了国产半绝缘SiC衬底上高质量152.4 mm （6英寸）GaN HEMT外延材料制备关键技术。材料厚度为2μm,GaN（002）和（102）面摇摆曲线半
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党的十八大以来，以习近平同志为核心的党中央高度重视数字化发展，提出建设“数字中国”伟大构想。数字化与法治化相辅相成、齐头并进是数字法治政府建设的基本要求和本质特征。政府推动数字化改革必须在习近平法治思想的指引下进行，深刻领会其精神内涵，以统筹全局的整体意识、植根人民的理论视角、与时俱进的创新精神来应对科技变革带来的理念颠覆、算法歧视、机制不畅等多重风险。
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