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二氧化硅膜(Si O2)由于具有理想的绝缘性能以及其致密的结构,在IC制造工艺中,可用于多层互联线的隔离以及掺杂时的掩蔽阻挡,具有广泛的应用。本文简要介绍几种主要的Si O2的制备技术和应用,并探讨其新型的制备技术。
刍议SiO2膜在IC工艺中的应用及其制备方法
【摘 要】
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二氧化硅膜(Si O2)由于具有理想的绝缘性能以及其致密的结构,在IC制造工艺中,可用于多层互联线的隔离以及掺杂时的掩蔽阻挡,具有广泛的应用。本文简要介绍几种主要的Si O2的
【机 构】
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常州信息职业技术学院电子与电气工程学院;
【出 处】
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电子技术与软件工程
【发表日期】
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2015年19期
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