【摘 要】
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利用电沉积法制备了聚对苯二酚/铜(PHQ/Cu)复合膜修饰电极,并采用循坏伏安法探究了抗坏血酸(AA)在该电极上的电催化氧化行为。结果表明,与裸电极、PHQ修饰电极相比,PHQ/Cu复
【基金项目】
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甘肃省应用化学省级重点实验室项目（GSACK20130113）;甘肃省民生科技计划项目（17CX1FM071）项目支撑
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利用电沉积法制备了聚对苯二酚/铜(PHQ/Cu)复合膜修饰电极,并采用循坏伏安法探究了抗坏血酸(AA)在该电极上的电催化氧化行为。结果表明,与裸电极、PHQ修饰电极相比,PHQ/Cu复合膜修饰电极对AA具有更好的催化作用,表明两种修饰剂对AA的电催化氧化有良好的协同催化作用;在0.1 mol/L磷酸盐缓冲溶液(p H=4.35)中,AA的氧化峰电流与其浓度在5×10-4~1.0×10-1mol/L范围内呈良好的线性关系,线性方程为lgI=0.7364lgc+1.6932,R2=0.99
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