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研究以金属Cr为例进行。采用射频磁控溅射法，在Si/SiO2及玻璃基底上溅射制备了不同参数的Cr薄膜，研究了不同溅射功率、沉积气压、靶基距等参数对Cr膜的影响，以满足纳米台阶高度标准样品的制备需要，为标样的化学稳定性提供了保障。
纳米高度标准样品的制备与标定
【摘 要】
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研究以金属Cr为例进行。采用射频磁控溅射法，在Si/SiO2及玻璃基底上溅射制备了不同参数的Cr薄膜，研究了不同溅射功率、沉积气压、靶基距等参数对Cr膜的影响，以满足纳米台阶高度
【机 构】
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西藏大学理学院
【出 处】
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广州化工
【发表日期】
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2014年15期
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