脉冲紫外激光刻蚀聚合物薄膜的发射光谱和形貌学研究

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【摘要】

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用聚焦的紫外XeCl准分子激光器轰击高分子聚合物薄膜(涤纶薄膜),由OMA系统接收其发射光谱.发现谱线主要为C_2的Swan带和CN的红带,并与高压汞灯照射后的聚合物薄膜的发射谱进

【作者】

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陈冲李飞鸣

【机构】

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复旦大学物理系,复旦大学物理系上海200432,上海200432,上海200432

【出处】

：

发光学报

【发表日期】

：

1993年2期

【关键词】

：

刻蚀效应薄膜高聚物发射谱 etching effect polymer film intensity threshold

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用聚焦的紫外XeCl准分子激光器轰击高分子聚合物薄膜(涤纶薄膜),由OMA系统接收其发射光谱.发现谱线主要为C_2的Swan带和CN的红带,并与高压汞灯照射后的聚合物薄膜的发射谱进行了比较,在我们的实验精度内,没有发现区别.实验显示,每个光脉冲能刻蚀掉几分之一到几个微米的薄膜.激光的刻蚀效应存在波长和能量密度两个阈值.对于涤纶薄膜,能量密度的阈值约为40mJ/cm~2.同时还作了紫外吸收光谱和SEM照片的分析.

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