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作为第三代半导体材料的典型代表,氮化镓具有比硅和砷化镓更为优越的性能,其制成的器件可用共晶焊接的方式进行组装。结合影响共晶焊的工艺因素以及试验芯片本身的特质,选取了不同参数进行试验,得到了适用于硅衬底、底面镀金的氮化镓芯片的较好共晶焊工艺参数,证明氮化镓器件的共晶焊接技术可行。
氮化镓器件的共晶焊接技术
【摘 要】
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作为第三代半导体材料的典型代表,氮化镓具有比硅和砷化镓更为优越的性能,其制成的器件可用共晶焊接的方式进行组装。结合影响共晶焊的工艺因素以及试验芯片本身的特质,选取
【机 构】
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成都西科微波通讯有限公司
【出 处】
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电子工艺技术
【发表日期】
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2017年3期
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