【摘 要】
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介绍一种用于半导体工业领域测量膜厚和表面轮廓的传感器，其分辨率达１ｎｍ 。经计量部门测试，测量范围为±１８０μｍ 时，线性度达０－４ ％ ＦＳ；量程分为四档：量程为１００ｎｍ 时，重复误差为２ ％ 。量程为５００ｎｍ 或１０００ｎｍ 时，重复误
【机 构】
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介绍一种用于半导体工业领域测量膜厚和表面轮廓的传感器，其分辨率达１ｎｍ 。经计量部门测试，测量范围为±１８０μｍ 时，线性度达０－４ ％ ＦＳ；量程分为四档：量程为１００ｎｍ 时，重复误差为２ ％ 。量程为５００ｎｍ 或１０００ｎｍ 时，重复误差为１％ 。量程为５０００ｎｍ 以上时，重复误差为零。传感器触针对工件的压力在０ ～０－５ｍＮ 间可调。
A sensor for measuring film thickness and surface profile in the semiconductor industry is introduced with a resolution of 1 nm. The measurement department tests, the measurement range of ± 180μm, the linearity of 0-4% FS; range is divided into fourth gear: Range of 100nm, the repeat error of 2%. The repeat error is 1% for a range of 500 nm or 1000 nm. When the measuring range is above 5000nm, the repetitive error is zero. The pressure of the sensor stylus on the workpiece is adjustable between 0 ~ 0-5mN.
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