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依据物的空间频谱分布，部分相干成象理论及空间滤波概念，分析了投影光刻中的掩模特征尺寸与光学邻近效应的关系，并通过成象系统的数值孔长对ＯＰＥ的影响的模拟验证了分析结果。
光学邻近效应与掩模特征尺寸的关系
【摘 要】
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依据物的空间频谱分布，部分相干成象理论及空间滤波概念，分析了投影光刻中的掩模特征尺寸与光学邻近效应的关系，并通过成象系统的数值孔长对ＯＰＥ的影响的模拟验证了分析结果。
【机 构】
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四川大学物理系,英国卢瑟福国家实验室
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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1998年6期
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