【摘 要】
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美国伊顿公司半导体部亚洲区经理罗伯特·奥斯本(R.W.Osborn)和该部中国部经理陆亚瑟于今年九月八日至十日访问了长沙电子工业部第四十八研究所。 伊顿公司代表在四十八所所
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美国伊顿公司半导体部亚洲区经理罗伯特·奥斯本(R.W.Osborn)和该部中国部经理陆亚瑟于今年九月八日至十日访问了长沙电子工业部第四十八研究所。 伊顿公司代表在四十八所所长杨洪普、总工程师张企民及有关人员陪同下参观了该所研制的LC5型200keV中束流微机控制离子注入机,LC4型600keV高能离子注入机
R. W. Osborn, Asia Business Manager of Eaton’s Semiconductor Division in the United States, and Lu Yaser, China’s Ministry of Foreign Affairs, visited the 48th Institute of Changsha Electronic Industries from September 8 to September 10 this year. Accompanied by forty-eight directors Yang Hongpu, chief engineer Zhang Qimin and relevant personnel, representatives from Eaton visited the developed LC5 type 200keV medium beam ion beam computer controlled ion implanter, the LC4 type 600keV high energy ion implanter
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