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采用磁控溅射工艺，以纯钨和纯镍为靶材在1TO玻璃上制备Ni掺杂WOx电致变色薄膜，研究了Ni掺杂对WOx薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理。实验结果表明：均匀掺杂少量的Ni可改变WOx薄膜内部的缺陷分布及结构，提高薄膜的电致变色性能。XRD分析表明，掺杂后的WOx：Ni薄膜为非晶态；XPS分析表明：WOx：Ni薄膜中的Ni为Ni^2＋。