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采用ＯＬＲＭＰＵＳ．ＰＭＧ３型光学显微镜和ＪＣＸＡ－７３３型电子探针显微分析仪，应用二次电子图像（ＳＥＩ）背散射电子图像，特征Ｘ射线扫描图像，较全面观察和分析了ＷＣ－Ｃｏ－Ｎｉ合金的断裂行为行径，孔隙和夹杂物等断裂源及其走向，确定了降低合金裂强度的重要因素，表述了断裂的机理。
WC—Co—Ni硬质合金微观组织与抗弯强度
【摘 要】
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采用ＯＬＲＭＰＵＳ．ＰＭＧ３型光学显微镜和ＪＣＸＡ－７３３型电子探针显微分析仪，应用二次电子图像（ＳＥＩ）背散射电子图像，特征Ｘ射线扫描图像，较全面观察和分析了ＷＣ－Ｃｏ－Ｎｉ合金的断裂行为行径，孔隙和夹杂物等断裂源及其走向，确定了降低合
【机 构】
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中南工业大学粉冶厂,410083
【出 处】
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硬质合金
【发表日期】
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1996年2期
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