【摘 要】
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对铜在含硅气氛中低温沉积、随后进行扩散处理的表面化学热处理进行了研究。使用光学显微镜、Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）仪、电子探针（ＥＰＭＡ）等对渗层进行了显微硬度、成分和结构分析，探讨了工艺参数对
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对铜在含硅气氛中低温沉积、随后进行扩散处理的表面化学热处理进行了研究。使用光学显微镜、Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）仪、电子探针（ＥＰＭＡ）等对渗层进行了显微硬度、成分和结构分析，探讨了工艺参数对渗层的影响。研究结果表明，通过这种表面化学热处理可以在铜表面形成Ｃｕ５Ｓｉ和Ｃｕ１５Ｓｉ４，其硬度较基体有很大提高。
The surface chemical heat treatment of copper deposition in the silicon-containing atmosphere at low temperature followed by diffusion treatment was investigated. The microhardness, composition and structure of the layer were analyzed by optical microscope, X-ray diffraction (XRD) and electron probe (EPMA). The influence of process parameters on the layering was also discussed. The results show that Cu5Si and Cu15Si4 can be formed on the copper surface by this kind of surface chemical heat treatment, and its hardness is much higher than that of the matrix.
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