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和几乎所有半导体光刻领域涉及的其它事情一样,光掩膜缺陷检测和消除正经历着一场革命,因为新的缺陷类型需要更多创新的清洗设备和工艺。
光掩膜缺陷和清洗：一种新环境
【摘 要】
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和几乎所有半导体光刻领域涉及的其它事情一样,光掩膜缺陷检测和消除正经历着一场革命,因为新的缺陷类型需要更多创新的清洗设备和工艺。
【机 构】
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Toppan Photomasks Inc.,Toppan Photomasks Inc.,Toppan Photomasks Inc.,
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2007年Z2期
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