【摘 要】
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采用低成本的气相辅助电沉积方法（vapor-assisted electro-deposition,VAED）成功制备了面积为15 cm^2均匀致密的钙钛矿薄膜。首先通过电化学沉积制备PbO2薄膜,然后与HI气体反应
【机 构】
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郑州大学物理工程学院、材料物理教育部重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金（11372283,61574129）,河南省基础与前沿计划项目（152300410035）
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采用低成本的气相辅助电沉积方法（vapor-assisted electro-deposition,VAED）成功制备了面积为15 cm^2均匀致密的钙钛矿薄膜。首先通过电化学沉积制备PbO2薄膜,然后与HI气体反应得到PbI2薄膜,接下来再与HI和CH3NH2混合气体反应,得到CH3NH3PbI3薄膜。实验发现：电化学沉积电压对PbO2薄膜的表面形貌和微结构有重要影响;在PbO2向PbI2的转化过程中,随着反应时间的减小,PbI2的结晶性逐渐增强,最佳反应时间为10 min;在钙钛矿的转化过程中,当HI
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