【摘 要】
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以光学滤光片薄膜边缘应力作为对象,研究了Ge/ZnS单、多层光学薄膜应力的变化规律.通过实验研究了离子束轰击能量以及真空退火温度等因素对Ge/ZnS光学薄膜应力类型、大小、变
【机 构】
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兰州空间技术物理研究所、真空技术与物理重点实验室
【基金项目】
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重点实验室基金(9140C540301110C5402)
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以光学滤光片薄膜边缘应力作为对象,研究了Ge/ZnS单、多层光学薄膜应力的变化规律.通过实验研究了离子束轰击能量以及真空退火温度等因素对Ge/ZnS光学薄膜应力类型、大小、变化及其分布的影响规律.ZnS薄膜的应力为压应力,采用离子束辅助工艺后薄膜边缘应力变得均匀;真空退火使ZnS薄膜的应力减小为原来的一半.通过优化沉积参数和张应力、压应力薄膜的组合降低了Ge/ZnS多层光学薄膜的应力,结果表明其平均应力分别为0.1 MPa,而且处于压应力状态.
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